大理石平臺(tái)也稱大理石平板、花崗巖平臺(tái)、花崗石平臺(tái)、巖石平板、平板等，是用于工件檢驗(yàn)或者劃線工作中的平面基準(zhǔn)器具。

　　大理石平臺(tái)校驗(yàn)guo家標(biāo)準(zhǔn)主要依據(jù)大理石平臺(tái)guo家標(biāo)準(zhǔn)GB/T20428-2006和大理石平臺(tái)檢定規(guī)程JJG117-2013：

　　1.大理石平臺(tái)精度等級(jí)劃分：根據(jù)GB/T 20428-2006，大理石平臺(tái)廠家生產(chǎn)的大理石平臺(tái)精度等級(jí)分為0級(jí)、1級(jí)、2級(jí)和3級(jí)四個(gè)等級(jí)。各等級(jí)的平面度公差計(jì)算公式為：

　　0級(jí)大理石平臺(tái)平面度允差（微米）=0.003乘以大理石平臺(tái)對(duì)角線長(zhǎng)度（mm）+2.5；

　　1級(jí)大理石平臺(tái)平面度允差（微米）=0.006乘以大理石平臺(tái)對(duì)角線長(zhǎng)度（mm）+5；

　　2級(jí)大理石平臺(tái)平面度允差（微米）=0.012乘以大理石平臺(tái)對(duì)角線長(zhǎng)度（mm）+10；

　　3級(jí)大理石平臺(tái)平面度允差（微米）=0.024乘以大理石平臺(tái)對(duì)角線長(zhǎng)度（mm）+20。

　　2.大理石平臺(tái)技術(shù)要求

　　材質(zhì)要求：大理石平臺(tái)生產(chǎn)廠家生產(chǎn)的大理石平臺(tái)應(yīng)采用堅(jiān)硬、易加工的巖石制造，如輝綠巖、輝長(zhǎng)巖、火成巖等。巖石需具有細(xì)晶粒、結(jié)構(gòu)均勻的特點(diǎn)，無(wú)影響使用性能的缺陷、瑕疵、裂紋及軟質(zhì)夾雜物。

　　外觀要求：工作面應(yīng)光滑、平整，無(wú)明顯的砂孔、縮松、劃痕、碰傷、氣孔、裂紋、夾渣銹跡等缺陷。非工作面上的凹陷或掉角允許修補(bǔ)，但修補(bǔ)后不得影響平臺(tái)的整體精度。

　　尺寸要求：厚度應(yīng)滿足在工作面區(qū)域施加載荷時(shí)，承載區(qū)域相對(duì)于其他區(qū)域的變形量不大于0.001mm/200N。

　　3.大理石平臺(tái)檢測(cè)方法

　　平面度檢測(cè)：使用電子水平儀或合像水平儀在大理石平臺(tái)的各個(gè)部位均勻提取數(shù)據(jù)點(diǎn)，計(jì)算出平面度公差。檢測(cè)應(yīng)在恒溫、無(wú)塵、無(wú)震動(dòng)的環(huán)境中進(jìn)行，以b保持測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性。

　　外觀檢測(cè)：目視檢查大理石平臺(tái)的工作面，保持無(wú)上述提到的各類缺陷。

　　4.使用條件

　　環(huán)境溫度：0級(jí)的大理石平臺(tái)應(yīng)在20±5℃的環(huán)境下生產(chǎn)并使用，且0級(jí)大理石平臺(tái)的每小時(shí)溫度變化不超過(guò)1℃。

　　環(huán)境濕度：應(yīng)避免在潮濕環(huán)境中使用，以防止大理石平臺(tái)受潮變形，相對(duì)濕度一般保持在40%-60%為宜。

　　防震要求：應(yīng)放置在無(wú)震動(dòng)的環(huán)境中，避免因震動(dòng)影響測(cè)量精度。同時(shí)，要放置在通風(fēng)、干燥、無(wú)振動(dòng)的環(huán)境中，遠(yuǎn)離熱源和腐蝕性氣體。